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Moyens de technologie et caractérisation

• Equipements pour la réalisation de composants et circuits intégrés:
  
  
  • 5 fours comprenant 8 tubes:
    • 3 tubes d'oxydation thermique
    • 1 tube de diffusion thermique (phosphore)
    • 2 tubes LPCVD de dépôt (oxyde : 1 - polysilicum :1 )
    • 2 tubes de recuit
  • 1 implanteur ionique (dopage bore BF3 & phosphore PH3, 20keV à 200keV)
  • 1 ralentisseur d'ion pour implanteur ionique
  • 2 équipements de dépôt métal sous vide
    (pulvérisation cathodique , évaporation par effet joule)
  • 1 gravure ionique réactive
  • 1 machine de délaquage plasma
  • 3 machines d'alignement de masques MA750
  • 1 machine d'alignement de masques (0,7µm) et de printing (0,5µm) MJB4
  • 2 polisseuses
  • 1 scie diamantée, 1 machine de découpe par pointe diamant
  • 1 machine de soudure sur embase par eutectique
  • 3 microsoudeuses de fils par ultrasons
  • centrifugeuses de dépôt résine, plaques chauffantes, étuves
  • bains thermostatés, bain ultrasons
  • laveur sécheur, centrifugeuses de séchage,...

• Équipements de caractérisation:
  
  
  • 1 résistivimètre 4 pointes
  • 1 profilomètre
  • 1 simulateur solaire 300W
  • 1 ellipsomètre
  • 1 comparateur
  • 1 appareil de mesure de profondeur de jonction
  • 3 Microscopes a force atomique
  • 1 microscope à fluorescence
  • 1 micro balance à quartz
    
  • 1 microscope electronique à balayage
  • microscopes optiques
  • 1 instrument de tracé de profil de dopage
  • 1 testeur sous pointes manuel
  • 1 testeur sous pointes automatique
  • 2 traceurs de caractéristiques analogiques
  • 1 oscilloscope numérique
  • 2 impédancemètres (caractérisation C(V))
  • 2 analyseurs de paramètres semi-conducteurs (caractérisation I(V))
  • 1 picoampèremètre
  • 1 générateur de fonctions

• Infrastructure technique
  
  
  
  • Ensemble de distributeur des gaz purs: Ar, O2, H2, N2/H2, CHF3, SF6, SiH4
    + infrastructure prévue pour gaz supplémentaires : SiH2Cl2, NH3, PH3)
  • 1 centrale de stockage d'azote liquide
  • 2 systèmes de détection de gaz toxiques complémentaires
  • 1 centrale de production d'eau désionisée 18 MOhm.cm
  • 1 centrale de distribution d'eau de refroidissement
  • 2 centrale de traitement d'air et de climatisation des salles blanches
  • 1 compresseur d'air
  • 2 pompes à vide de service
  • 1 système de détection d'incendie (détecteurs de fumée, extincteurs)